一、電子半導體廢水的來源和污染物化學成分

　　電子半導體廢水的來源于半導體研磨過程產生的廢水，例如酸堿廢水、半導體研磨污水、半導體含氟廢水、半導體含磷廢水、半導體氨氮廢水。半導體有機廢水等，另外還來源于半導體集成電路的蝕刻廢水、鍍槽廢水、清洗廢水等，這些廢水的直接排放會對周圍環境造成一·定污染。在電子產品及有關金屬制品的生產制造和回收運用全過程中，造成大量的電子廢水。電子廢水的成份不一樣，所含污染物的類型和內容也有差別，電子半導體廢水的污染物化學成分為磷、氟離子、超細顆粒物、氨氮、有機物COD、重金屬離子等。在其中基礎都都帶有鉻、銅、鎳、鎘、鋅、鉛、汞等重金屬離子離離子、氰·化物、一些酸性物質和堿性物質。廢水中的重金屬離子具備毒性長，不可以生物降解等特性，并且可以在生物中富集，使生物功能紊亂，對生態環境和人體健康造成嚴重危害。因此，針對電子半導體廢水處理，需根據每個生產企業的具體情況和當地工業廢水的排放標準，建設針對性需求的電子半導體廢水處理系統工程，才能保證廢水處理站建成后穩定運行

　　二、電子半導體廢水處理方法

　　電子半導體廢水處理以膜法深度處理循環利用為主

　　混凝預處理+砂濾+超濾+反滲透膜法，前期的混凝預處理選擇混凝劑較為關鍵，普通的混凝劑如聚鋁、聚鐵等處理不能滿意，特別是不能完全絮凝去除堵塞膜的超細顆粒物，需要特殊的納米級別的有機混凝劑，絮凝分離污染膜的懸浮物、顆粒物、膠體、重金屬等。

　　電滲析技術在硅及半導體行業具有廣泛的應用前景：

　　1.純化硅

　　硅是半導體電子行業的基礎材料。純化硅是提高半導體電子材料質量的關鍵因素。通過電滲析技術，可以有效地從雜質中分離出純硅。在電滲析過程中，將硅溶解在酸性溶液中，并通過一個特殊的離子交換膜將純硅分離出來。這種方法非常適用于制造高質量的硅片。

　　2.分離半導體材料

　　電滲析技術還可用于分離半導體材料。半導體材料通常含有多種元素這些元素需要經過分離才能得到半導體電子器件所需的純度和可靠性。電滲析技術通過一系列的依據不同化學活性的離子來分離這些元素，在這種方法中，首先將半導體材料溶解在溶液中，并將帶負電荷的膜放在溶液中。離子將在膜上積聚，并被分離出來。

　　3.制造電子器件

　　電滲析技術是制造電子器件的關鍵技術之一。電子器件通常由半導體材料制成。在制造過程中，需要將不同的元素分離出來以得到所需純度和可靠性的材料。電滲析技術可實現這一過程。此外，該技術還可用于生產電子器件中所需的良好電阻率、生長速率、表面平整度和表面反應性等。